Submicro- and nanostructural effects on electrical properties of Li0.2V2O5 thin films obtained by atomic layer deposition (ALD) - CentraleSupélec
Article Dans Une Revue Journal of Physics and Chemistry of Solids Année : 2006

Submicro- and nanostructural effects on electrical properties of Li0.2V2O5 thin films obtained by atomic layer deposition (ALD)

Mots clés

thin films

Domaines

Matériaux

Thierry Leblanc  : Connectez-vous pour contacter le contributeur

https://centralesupelec.hal.science/hal-00325014

Soumis le : jeudi 25 septembre 2008-19:31:27

Dernière modification le : mercredi 18 décembre 2024-09:48:52

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00325014 , version 1 (25-09-2008)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00325014 , version 1

Citer

Jean-Claude Badot, A. Mantoux, Noël Baffier, Olivier Dubrunfaut, Daniel Lincot. Submicro- and nanostructural effects on electrical properties of Li0.2V2O5 thin films obtained by atomic layer deposition (ALD). Journal of Physics and Chemistry of Solids, 2006, 67, pp.1270-1274. ⟨hal-00325014⟩

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