Submicro- and nanostructural effects on electrical properties of Li0.2V2O5 thin films obtained by atomic layer deposition (ALD) - CentraleSupélec
Communication Dans Un Congrès Année : 2005

Submicro- and nanostructural effects on electrical properties of Li0.2V2O5 thin films obtained by atomic layer deposition (ALD)

Thierry Leblanc  : Connectez-vous pour contacter le contributeur

https://centralesupelec.hal.science/hal-00351961

Soumis le : lundi 12 janvier 2009-11:52:03

Dernière modification le : vendredi 23 août 2024-11:20:02

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00351961 , version 1 (12-01-2009)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00351961 , version 1

Citer

Jean-Claude Badot, A. Mantoux, Noël Baffier, Olivier Dubrunfaut, Daniel Lincot. Submicro- and nanostructural effects on electrical properties of Li0.2V2O5 thin films obtained by atomic layer deposition (ALD). 13th International Symposium on Intercalation Compounds (ISIC 13), Jun 2005, Clermont-Ferrand, France. ⟨hal-00351961⟩

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