Amorphous Y-Ba-Cu-O oxygen-depleted thin films on silicon: wide frequency band dielectric characterizations help probing application to room temperature infrared detection - CentraleSupélec
Communication Dans Un Congrès Année : 2012

Amorphous Y-Ba-Cu-O oxygen-depleted thin films on silicon: wide frequency band dielectric characterizations help probing application to room temperature infrared detection

Aurélie Gensbittel
Laboratoire de génie électrique de Paris
Jérôme de Lambert
  • Fonction : Auteur
Brice Leduc
  • Fonction : Auteur
Olivier Dubrunfaut
Laboratoire de génie électrique de Paris
CV
Alain Kreisler
Laboratoire de génie électrique de Paris
Annick Dégardin
Laboratoire de génie électrique de Paris

Thierry Leblanc  : Connectez-vous pour contacter le contributeur

https://centralesupelec.hal.science/hal-00780529

Soumis le : jeudi 24 janvier 2013-11:12:47

Dernière modification le : vendredi 20 octobre 2023-16:52:50

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00780529 , version 1 (24-01-2013)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00780529 , version 1

Citer

Aurélie Gensbittel, Jérôme de Lambert, Brice Leduc, Olivier Dubrunfaut, Alain Kreisler, et al.. Amorphous Y-Ba-Cu-O oxygen-depleted thin films on silicon: wide frequency band dielectric characterizations help probing application to room temperature infrared detection. Conference of the European Materials Science Society (E-MRS 2012), May 2012, Strasbourg, France. ⟨hal-00780529⟩

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