Local resistance imaging on soft materials by conducting probe atomic force microscopy in intermittent contact mode - CentraleSupélec
Communication Dans Un Congrès Année : 2016

Local resistance imaging on soft materials by conducting probe atomic force microscopy in intermittent contact mode

Domaines

Micro et nanotechnologies/Microélectronique

Frédéric Houzé  : Connectez-vous pour contacter le contributeur

https://centralesupelec.hal.science/hal-01320255

Soumis le : lundi 23 mai 2016-15:48:22

Dernière modification le : mercredi 13 mars 2024-13:02:45

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-01320255 , version 1 (23-05-2016)

Identifiants

  • HAL Id : hal-01320255 , version 1

Citer

Aymeric Vecchiola, Pascal Chrétien, Karim Bouzehouane, Olivier Schneegans, Pierre Seneor, et al.. Local resistance imaging on soft materials by conducting probe atomic force microscopy in intermittent contact mode. NanoMetrology 2016, Jun 2016, Paris, France. pp.126. ⟨hal-01320255⟩

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