Low temperature plasma epitaxy of Silicon on III-V - CentraleSupélec
Communication Dans Un Congrès Année : 2018

Low temperature plasma epitaxy of Silicon on III-V

Domaines

Science des matériaux [cond-mat.mtrl-sci] Micro et nanotechnologies/Microélectronique Energie électrique Optique / photonique Matériaux

Jean-Paul KLEIDER  : Connectez-vous pour contacter le contributeur

https://centralesupelec.hal.science/hal-01801476

Soumis le : lundi 28 mai 2018-14:37:43

Dernière modification le : mercredi 30 octobre 2024-13:28:35

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Dates et versions

hal-01801476 , version 1 (28-05-2018)

Identifiants

  • HAL Id : hal-01801476 , version 1

Citer

Gwenaëlle Hamon, Nicolas Vaissiere Vaissière, Wanghua Chen, J Alvarez, Jean-Luc Maurice, et al.. Low temperature plasma epitaxy of Silicon on III-V. EMRS Spring Meeting 2018, Jun 2018, Strasbourg, France. ⟨hal-01801476⟩

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